晶圆2D缺陷检测系统
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  • 晶圆2D缺陷检测系统

所属分类:

Hawkeye-WST6055

晶圆2D缺陷检测系统


• 兼容frame wafer
• IR隐裂支持
• INK点墨支持

产品应用:

应用于晶圆切割后出货/封测切割后,可检测6-12寸晶圆um级缺陷,反馈前道工艺良率,输出map图提升后道工艺效率。


切割道检测

IR隐裂

异物

污染

崩边

划伤

 

项目 内容
产品类型 6",8",12"带环晶圆
2D检测项目 异物、残胶、粒子、划痕、隐裂、污染、CP扎偏、面积过大等缺陷
切割道偏移、崩边等缺陷
片盒及传输方式 6",8",12"带环卡塞
镜头及分辨率 2x(2.75um)/3.5x(1.57um) / 5x(1.1um)/7.5x(0.73um)/10x(0.55um)
精度 0.55μm/pixel
选配及定制 INK模块,IR模块
可检测区域 正面检测(标配),背面检测(可定制)

 



划伤


脏污


IR隐裂


IR隐裂


划伤


崩边


点墨复判


墨点识别

 

  • 产品描述
    • 商品名称: 晶圆2D缺陷检测系统
    • 商品编号: A-002
    • 型号: Hawkeye-WST6055
    • 产品应用: 应用于晶圆切割后出货/封测切割后,可检测6-12寸晶圆um级缺陷,反馈前道工艺良率,输出map图提升后道工艺效率。

    • 兼容frame wafer<br> • IR隐裂支持<br> • INK点墨支持<br>


    切割道检测

    IR隐裂

    异物

    污染

    崩边

    划伤

     

    项目 内容
    产品类型 6",8",12"带环晶圆
    2D检测项目 异物、残胶、粒子、划痕、隐裂、污染、CP扎偏、面积过大等缺陷
    切割道偏移、崩边等缺陷
    片盒及传输方式 6",8",12"带环卡塞
    镜头及分辨率 2x(2.75um)/3.5x(1.57um) / 5x(1.1um)/7.5x(0.73um)/10x(0.55um)
    精度 0.55μm/pixel
    选配及定制 INK模块,IR模块
    可检测区域 正面检测(标配),背面检测(可定制)

     



    划伤


    脏污


    IR隐裂


    IR隐裂


    划伤


    崩边


    点墨复判


    墨点识别

     

关键词:

AOI设备

自动化

软件系统

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